B 합금 타겟용 99-99.99% 붕소 결정질 과립 5-10mm
99~99.99% 순도의 붕소 결정질 과립(5~10mm)은 붕소 합금 타겟 제조에 적합하며, 완전한 결정 구조, 낮은 불순물 함량, 안정적인 화학적 성질, 그리고 낮은 가스 발생량을 특징으로 합니다.
주로 붕소 합금 스퍼터링 타겟의 원료로 사용되며, 진공 용융, 합금 제련, 반도체 박막 코팅, PVD 타겟 제조 및 첨단 전자 재료 생산에 적합합니다. 금속 매트릭스에 첨가하여 균일한 조성의 붕소 함유 합금 타겟을 제조할 수 있습니다.
중국산 3N 4N 결정질 붕소 과립(3-5mm, 5-10mm) 제품 목록:
| 분자식: | 비 |
| CAS | 7440-42-8 |
| 밀도 | 2.3 g/cm3 |
| 단계 | β-B 단계 |
| 녹는점 | 2300°C |
| 비등점 | 2550°C |
| 모스 경도 | 9 |
| 상대 원자 질량 | 10.81 |
| 안정 동위원소 | 10B, 11B |
| 색상 | 짙은 회색, 검정색 |
화학적 조성:
| 화학적인 | 2N 결정질 붕소 | 3N 결정질 붕소 | 4N 결정질 붕소 | 5N 결정질 붕소 | 6N 결정질 붕소 |
| 비 | 99% 이상 | ≥99.9% | ≥99.99% | ≥99.999% | ≥99.9999% |
| 철 | ≤500ppm | 200ppm 이하 | ≤90ppm | ≤8ppm | ≤0.5 ppm |
| ~에 | ≤2.5ppm | ≤0.08ppm | ≤0.06ppm | ≤0.02ppm | ≤0.02ppm |
| ~에 | ≤1 ppm | ≤0.8 ppm | ≤0.3 ppm | ≤0.03ppm | ≤0.03ppm |
| 와 함께 | ≤12ppm | ≤10ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.03ppm | ≤0.03ppm |
| 스니 | ≤30ppm | ≤9ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.08ppm |
| 망 | ≤300ppm | ≤3ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.07ppm |
| 납 | ≤0.08ppm | ≤0.3 ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.08ppm | ≤0.02ppm |
| 저것 | / | ≤18ppm | ≤0.2ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.01ppm |
| 처럼 | / | / | / | ≤0.08ppm | ≤0.01ppm |
| 안에 | / | / | / | ≤0.05ppm | ≤0.02ppm |
| 게 | / | / | / | ≤0.05ppm | ≤0.04ppm |
일반적인 크기 및 포장:
| 붕소 함량 | 일반적인 크기 | 패키지 |
| 99 | 1-5μm, 10-30μm, 50-100μm | 1kg/5kg 진공 알루미늄 호일 백에 포장되어 있습니다 (나노 분말만 밀봉되어 있으며 진공 포장은 되어 있지 않습니다). |
| 99.9 | -200메쉬, 0-10μm, 1-10mm | 분말형: 1kg/5kg/ 진공 알루미늄 호일 백 포장
과립형: 50g/500g/1000g 용량으로 PP 용기에 포장되어 있으며, 불활성 가스로 충전되어 있습니다. |
| 99.99 | -200메쉬, 1-10mm | 50g/100g 용량으로 PP 용기에 포장되어 있으며, 불활성 가스로 밀봉되어 있습니다. |
| 99.999 | ||
| 99.9999 |
애플리케이션:
1. 원자력 산업에서 결정질 붕소의 응용 분야:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
결정질 붕소는 탄화붕소(B4C) 및 흑연 붕소 화합물(Bg)과 같은 고경도 소재를 제조하는 데에도 사용될 수 있습니다. 탄화붕소는 내마모성과 내열성이 뛰어난 매우 단단한 세라믹 소재로, 방탄복, 경질 공구, 연마재 및 내마모성 세라믹 제조에 널리 사용됩니다. 흑연 붕소 화합물은 흑연과 유사한 구조를 가진 소재로, 높은 전기 전도성과 열 안정성을 나타내며, 고성능 전도성 결합제, 열전도성 소재 및 마찰재를 제조하는 데 사용될 수 있습니다.
6. 열전지에 사용되는 결정질 붕소의 응용 분야:
열전지는 용융염을 전해질로 사용하는 단상 열활성화 축전지입니다. 소형, 경량, 장기 저장, 무보수 작동, 신속하고 안정적인 활성화, 넓은 작동 온도 범위 등의 장점을 가지고 있으며, 일부 전략 무기 및 재래식 무기의 점화 장치에 널리 사용됩니다. 열전지의 음극 소재는 용량, 부피, 출력에 결정적인 역할을 합니다. 열전지 음극 소재는 초기 마그네슘 및 칼슘 기반 소재에서 현재의 리튬 기반 소재로 발전해 왔습니다. 예를 들어, 리튬-붕소 복합재는 높은 에너지 밀도, 높은 출력, 낮은 분극, 순수 리튬에 가까운 전기화학적 전위, 600℃ 이상의 고온에서도 고체 상태를 유지하는 등의 뛰어난 장점을 가지고 있습니다. 이는 가장 유망한 열전지 음극 소재로, 고성능 열전지에 점차 적용되고 있습니다.
7. 군사 산업 분야에서 결정질 붕소의 응용 분야:
결정질 붕소는 고순도 붕소 세라믹 방탄재, 고순도 붕소 지연제, 고순도 붕소 용접 플럭스, 고순도 붕소 폭약, 고순도 붕소 연료 과잉 및 산소 결핍 로켓 추진제 제조에 사용될 수 있습니다.
8. 합금 제조에 사용되는 결정질 붕소:
고순도 붕소 구리 합금, 고순도 붕소 티타늄 합금, 고순도 붕소 다결정강, 고순도 붕소 초경질 내마모 공구, 고순도 붕소 내식 강판, 고순도 붕소 니켈 합금, 고순도 붕소 크롬 합금, 리튬 붕소 합금(신소재 배터리), 붕소-마그네슘 초전도 합금.
9. 항공우주 분야에서 결정질 붕소의 응용 분야:
고순도 결정질 붕소 분말은 나노 코팅 분말 소재로 사용될 수 있습니다. 스퍼터링 기술을 통해 이 분말 소재를 기판 표면에 코팅하면 부품의 내마모성, 내식성, 내열성, 내산화성 및 내후성을 향상시킬 수 있습니다. 이는 항공우주 및 항공 분야의 극한 환경에서 작동하는 엔진의 요구 사항을 충족할 뿐만 아니라 광전자공학 및 기타 분야의 특수 요구 사항에도 대응할 수 있습니다.
패키지:
자주 묻는 질문(FAQ):
1. 질문: 중국에서 결정질 붕소 소재를 수출하는 데 제한 사항이 있습니까?
A: 네, 고순도 결정질 붕소 미세 입자 및 붕소 분말의 경우 이중 용도 수출 허가를 받아야 합니다. 하지만 0.5~1mm 이상의 큰 입자는 수출이 가능합니다.
2. 질문: 결정질 붕소 분말의 결정상은 무엇입니까?
A: 정이십면체 구조의 베타상입니다.
